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Otuska
大塚电子
大塚电子(Otuska)主营光学特性评价设备,含光谱仪、膜厚仪、三维显微镜、椭偏仪、相位差测量仪、Zeta电位 / 粒径分析仪、光源照明及 FPD / 半导体检测设备。

分析仪器、测量仪器、膜厚计产品线
分光光度计(1)(1)(1)(1)(1)(1)
ZETA电位
粒子径.粒子径分布
分子量
膜厚 · 厚度评估仪器
功能材料评估仪器
半导体评估仪器
FPD相关评估仪器
光源照明评价仪器
荧光评估仪器
膜厚计产品线
OTSUKA大塚电子ZETA电位·粒径测试系统·ELSEneoSE
特点: 本产品为粒径及zeta电位测量专用装置。ELSZneoSE选择了ELSZneo的新功能。 根据用途,可以根据需要定制任意数量的必要功能等...
OTSUKA大塚电子 ZETA电位·粒径·分子量测系统 ELSZ-2000ZS
特点: 使用了最新型高感度APD,感度提升及缩短测量时间 通过测量自动温度梯度空间,可分析出変性相转移温度 可测量0~90℃大范围内的温度 追加了大范围的分子量测量... 前往洽谈
OTSUKA大塚电子 ZETA电位·粒径·分子量·ELSZ-2000ZS
特点: 可测量稀薄溶液~浓厚溶液的ZETA电位和粒径,并可进行分子量测量的检测装置
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OTSUKA大塚电子多样品纳米粒子径测试系统·nanoSAQLA
特点: nanoSAQLA是一台通过动态光散乱法(DLS法)测量粒径(粒径0.6nm~10um)的装置。支持从稀薄到浓厚系广泛浓度范围内的多检体测定的新光学系统,实现了实验室必需的轻量、小型化、标准1分钟的高速测定。 另外,这是一款非浸泡型、不受接触器影响、无需自动取样器、标准配备“5检体连续测量”的新产品。
OTSUKA大塚电子ZETA电位·粒径测试系统·ELSZneoSE
特点: 本产品为粒径及zeta电位测量专用装置。ELSZneoSE选择了ELSZneo的新功能。 根据用途,可以根据需要定制任意数量的必要功能。...
OTSUKA大塚电子ZETA电位·粒径·分子量测试系统·ELSZneo
特点: ELSZneo是ELSZ series的***机型,除了在稀薄溶液~浓厚溶液中进行zeta电位(Zeta Potential,ζ-电位)和粒径测定之外,还能进行分子量测定的装置。作为新的功能,为了提高粒度分布的分离能力,采用了多角度测定。另外,也可实现测量粒子浓度测定、微流变学测定、凝胶的网状结构分析。
OTSUKA大塚电子 ZETA电位·粒径·分子量测系统 ELSZ-2000ZS
特点: 使用了最新型高感度APD,感度提升及缩短测量时间 通过测量自动温度梯度空间,可分析出変性相转移温度 可测量0~90℃大范围内的温度 追加了大范围的分子量测量... 前往洽谈
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OTSUKA大塚电子ZETA电位·粒径·分子量测试系统·ELSZneo
特点: ELSZneo是ELSZ series的***机型,除了在稀薄溶液~浓厚溶液中进行zeta电位(Zeta Potential,ζ-电位)和粒径测定之外,还能进行分子量测定的装置。作为新的功能,为了提高粒度分布的分离能力,采用了多角度测定。另外,也可实现测量粒子浓度测定、微流变学测定、凝胶的网状结构分析。
OTSUKA大塚电子 ZETA电位·粒径·分子量测系统 ELSZ-2000ZS
特点: 使用了最新型高感度APD,感度提升及缩短测量时间 通过测量自动温度梯度空间,可分析出変性相转移温度 可测量0~90℃大范围内的温度 追加了大范围的分子量测量... 前往洽谈
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OTSUKA大塚电子线扫描膜厚仪【在线型】
特点: 采用线扫描方式检测整面薄膜 硬件软件均为创新设计 作为专业膜厚测定厂商,提供多种支援 实现高精度测量(已获取专利) 实现高速测量 不受偏差影响 可对应宽幅样...
OTSUKA大塚电子线扫描膜厚仪【离线型】
特点: 全面高速高精度进行薄膜等面内膜厚不均一性检测 硬件软件均为创新设计 作为专业膜厚测定厂商,提供多种支援 实现高精度测量(已取得专利) 实现高速测量
OTSUKA大塚电子显微微分光膜厚计OPTM series
特点: 利用显微微分光膜厚计OPTM series的高精度、微小光点,在线提供制作晶片图案后的微小区域测量等膜厚信息。...
OTSUKA大塚电子显微分光膜厚仪 OPTM series
特点: ● 非接触 · 非破坏 · 显微、对焦、测量1秒完成 ● OPTM系列显微分光膜厚仪是一款可替代椭偏仪,测试膜厚、折射率n、消光系数k、绝对反射率的新型高精度、高性价比的分光膜厚仪。适用于各种可透光膜层的测试,并有**专利可针对透明基板去除背面反射,从而达到“真实反射率、膜厚”测试的目的。此外,软件操作简单、使用方便且简化了复杂的建模流程。...
OTSUKA大塚电子膜厚量测仪 FE-300
特点: 薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析 高性能的低价光学薄膜量测仪 藉由绝对反射率光谱分析膜厚 完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能 无复杂设定,操作简单,短時...
OTSUKA大塚电子分光干涉式晶圆膜厚仪 SF-3
特点: 即时检测 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于减薄制程中的厚度变化 (强酸环境中) 产品特色 非接触式、非破坏性光学式膜厚检测 采用分光干涉法实现高度检测再现性 可进行高速...
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OTSUKA大塚电子相位差测量装置 RETS-100nx New
特点: 采用了偏光光学系和多通道分光检出器 有可对应各种尺寸的装置,从1mm大小的光学素子到第10代的大型基板 安全对策和粒子对策,可对应液晶line内的检查设备 测量项目...
OTSUKA大塚电子线扫描膜厚仪【在线型】
特点: 采用线扫描方式检测整面薄膜 硬件软件均为创新设计 作为专业膜厚测定厂商,提供多种支援 实现高精度测量(已获取专利) 实现高速测量 不受偏差影响 可对应宽幅样...
OTSUKA大塚电子椭偏仪 FE-5000
特点: 可在紫外和可见(250至800nm)波长区域中测量椭圆参数 可分析纳米级多层薄膜的厚度 可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量Ellipso光谱 通过可变反射角测量,可详细分析...
OTSUKA大塚电子光波动场三次元显微镜MINUK
特点: MINUK可评价nm级的透明的异物・缺陷,一次拍照即可瞬时获得深度方向的信息,可非破坏・非接触・非侵入的进行测量。且无需对焦,可在任意的面进行高速扫描,轻松决定测量位置。
OTSUKA大塚电子高速相位差测量装置 RE-200
特点: 可测从0nm开始的低(残留)相位差 光轴检出同时可高速测量相位差(Re.) (相当于世界最快速的0.1秒以下来处理) 无驱动部,重复再现性高 设置的测量项目少,测量简单...
OTSUKA大塚电子MCPD series在线胶卷评价系统
特点: 本公司的MCPD series在线胶卷评价系统,由于光学式非接触·非破坏的膜厚,浓度,颜色等的检查可能。
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OTSUKA大塚电子显微分光膜厚仪 OPTM series
特点: ● 非接触 · 非破坏 · 显微、对焦、测量1秒完成 ● OPTM系列显微分光膜厚仪是一款可替代椭偏仪,测试膜厚、折射率n、消光系数k、绝对反射率的新型高精度、高性价比的分光膜厚仪。适用于各种可透光膜层的测试,并有**专利可针对透明基板去除背面反射,从而达到“真实反射率、膜厚”测试的目的。此外,软件操作简单、使用方便且简化了复杂的建模流程。...
OTSUKA大塚电子光波动场三次元显微镜MINUK
特点: MINUK可评价nm级的透明的异物・缺陷,一次拍照即可瞬时获得深度方向的信息,可非破坏・非接触・非侵入的进行测量。且无需对焦,可在任意的面进行高速扫描,轻松决定测量位置。
OTSUKA大塚电子分光干涉式晶圆膜厚仪 SF-3
特点: 即时检测 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于减薄制程中的厚度变化 (强酸环境中) 产品特色 非接触式、非破坏性光学式膜厚检测 采用分光干涉法实现高度检测再现性 可进行高速...
OTSUKA大塚电子多通道光谱仪 MCPD-9800 / 6800
特点: 应用广泛的测量仪。 以最高机型MCPD-9800为首,一共有3种对应12波长领域的测量仪。 我们可以根据客户的需求和用途提出最适合的方案。 不同评价方法对应不同设备 ◎...
OTSUKA大塚电子MCPD series在线胶卷评价系统
特点: 本公司的MCPD series在线胶卷评价系统,由于光学式非接触·非破坏的膜厚,浓度,颜色等的检查可能。
OTSUKA大塚电子Load Port对应膜厚测量系统 GS-300
特点: 支持集成到 Φ300mm EFEM 单元的备用端口 实现嵌入在晶片中的布线图案的图案对齐 支持半导体工艺的高吞吐量要求 支持槽口对齐功能 小尺寸规格 高精度自动校准单元 自动...
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用于透过率/吸光度测量的多通道光谱仪MCPD series
特点: 是从紫外到近红外领域对应的多功能多通道分光检测器。最短5ms即可进行光谱测量。标准装置的光纤可支持各种测量系统,而无需确定样品种类。以显微分光、光源发光、透射、反射测定为首,通过与软件的组合,也可以对应物体颜色评价、膜厚测定等。...
OTSUKA大塚电子液晶层间隙量测设备 RETS series
特点: 采用了偏光光学系和多通道分光检出器 有可对应各种尺寸的装置,从1mm大小的光学素子到第10代的大型基板 安全对策和粒子对策,可对应液晶line内的检查设备 测量项目...
OTSUKA大塚电子高灵敏度光谱仪 HS-1000
特点: 采用具有高亮度和色度精度的光谱方法(衍射光栅), 0.005cd / m 2的超低亮度到400000cd / m 2的高亮度都可测量, 对应CIE推荐的宽波长范围(355 nm至835 nm) 独特的光学系统降低了...
OTSUKA大塚电子彩色滤光片、彩色光刻胶测量装置 LCF series
特点: 以透过光谱测量、色测量为代表,通过浓度测量、膜厚测量、反射光谱测量等,可对应彩色滤光片制造工程中的所有检查的装置 可用于彩色滤光片的光学特性或玻璃基板...
OTSUKA大塚电子 显微微分光膜厚计OPTM series 嵌入型
特点: 利用显微微分光膜厚计OPTM series的高精度、微小光点,在线提供制作晶片图案后的微小区域测量等膜厚信息。...
OTSUKA大塚电子 膜厚测量系统 FE-3700/5700
特点: 可以高速、高精度地测量各种玻璃基板上各种薄膜的膜厚和光学常数。 除了支持包括下一代尺寸在内的大型玻璃基板外,它还支持 LCD、TFT 和有机 EL。 用法 LCD ITO.
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OTSUKA大塚电子总光谱光通量测量系统 HM/FM series
特点: 可处理高达2400mm的直管光学总光通量测量 测量系统符合IESNA的LM-79和LM-80标准 采用新的探测器,可以进行广动态范围的测量 测量部分的尺寸(积分球或积分半球)从250毫...
OTSUKA大塚电子紫外分光全光谱光通量测量系统
特点: 具有高灵敏度检测器的宽测量范围 具有紫外线自吸收校正的高精度测量 配备温度控制单元,可从-110C进行温度控制 涵盖从紫外线到可见光的波长范围 电源、温控单元、...
OTSUKA大塚电子紫外分光配光测量系统
特点: 通过分光光度分布对紫外光进行高精度测量 从配光上评估紫外光的**发光强度、光束开度、光束光通量 涵盖从紫外线到可见光的波长范围 支持从 LED 芯片到模块和应用...
OTSUKA大塚电子紫外分光辐射照度测量系统 New
特点: 该检测器 是一种高性能的分光光度计 ,在光源测量、反射/透射测量、过程测量等 方面取得 了 多项成果 。 覆盖从紫外线到可见光的宽波长范围 带软件的样品照明电源...
OTSUKA大塚电子高速LED光学特性仪 LE series
特点: 与产线的控制信号同步 通过光纤的自由的测试系统 实现最短2ms~的光谱测量(LE-5400) 同以往的产品相比,测量?演算?评价1个周期有可到半分钟以下的高速机型 测量.
OTSUKA大塚电子高感度分光辐射亮度计 HS-1000
特点: 采用具有高亮度和色度精度的光谱方法(衍射光栅), 0.005cd / m 2的超低亮度到400000cd / m 2的高亮度都可测量, 对应CIE推荐的宽波长范围(355 nm至835 nm) 独特的光学系统降低了..
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OTSUKA大塚电子高灵敏度近红外量子效率测量系统 QE-5000 New
特点: 可以测量0.01%或更低的单线态氧的产生量子产率。 单线态氧 (1270 nm) 的简单直接光谱观察 可在用于生物应用等的水性溶剂中测量。 传统方法难以在轻溶剂中进行测量...
OTSUKA大塚电子多通道光谱仪 MCPD-9800 / 6800
特点: 应用广泛的测量仪。 以最高机型MCPD-9800为首,一共有3种对应12波长领域的测量仪。 我们可以根据客户的需求和用途提出最适合的方案。 不同评价方法对应不同设备 ◎...
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OTSUKA大塚电子显微微分光膜厚计OPTM series
特点: 利用显微微分光膜厚计OPTM series的高精度、微小光点,在线提供制作晶片图案后的微小区域测量等膜厚信息。...
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