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产品展示

日立荧光分布成像系统 EEM® View

荧光分布成像系统采用全新设计,可以测定并观察样品的光谱数据。利用AI光谱图像处理算法*1,不但可以分别显示样品的荧光图像和反射图像,还可以获得不同区域的光谱图像*1(荧光光谱、反射光谱)。
名称 荧光分布成像系统
规格
品牌 HITCHI日立
型号 EEM® View
特点 同时获得荧光 · 反射图像和光谱
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产品选件
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什么是EEM View
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新技术可同时获得荧光 · 反射图像和光谱

  • 测定样品的光谱数据(反射光谱、荧光光谱)

  • 在不同光源条件(白光和单色光)下拍摄样品
     (区域:Φ20 mm、波长范围:380~700 nm)

  • 采用AI光谱图像处理算法*1,能够分别显示样品荧光图像和反射图像

  • 根据图像可获得不同区域的光谱信息*1(荧光光谱、反射光谱)

*1计算系统是国立信息学研究所的IMARI SATO教授和郑银强副教授共同研究的成果

EEM View Analysis 界面(样品:LED电路板)

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荧光分布成像系统概要

均匀的光源系统

同时获取样品的荧光 · 反射图像和光谱!

  • 积分球漫反射使光源均匀化

  • 利用积分球收集的光均匀照射样品

  • 采用荧光检测器和CMOS相机双检测模式


新型荧光分布成像系统可安装到F-7100荧光分光光度计的样品仓内。入射光经过积分球的漫反射后均匀照射到样品,利用F-7100标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱,结合积分球下方的CMOS相机可获得样品图像,并利用独特的AI光谱图像处理算法,可以同时得到反射和荧光图像。

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样品安装简单,适用于各种样品测试!

样品只需摆放到积分球上,安装十分简单!

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  • 板状样品:通过石英窗安装样品。

  • 粉末样品:将粉末填充至样品平整夹具中,置于粉末样品池支架,或使用选配件固体样品支架中的粉末样品池安装样品。

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  • 校正时,需放置好荧光标准样品。

  • 请使用选配的标准白板(100 %)和空白样品(0 %)进行校正。此校正工具可被应用于荧光强度、反射率校正, 以及图像不同区域的亮度分布校正。

应用数据
【应用实例】微结构材料的荧光特性和结构确认

为了提高可视性,我们测量了具有精细结构的荧光反射片。

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同时获得光谱数据和样品图像

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对样品照射360 nm~700 nm范围内的单色光以及白光。此时,可获得不同光源条件下的图像,同时通过荧光检测器可获得荧光光谱。测定完成后,可以查看样品的三维荧光光谱(激发波长、发射波长、荧光强度)。在专用分析软件中,可对图像进行放大,从而显示不同区域的荧光 · 反射光谱。因此能够确认光学性能分布不均匀的样品的反射和荧光光谱。

计算、显示不同区域的光谱(荧光 · 反射)

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显示分离图像(荧光 · 反射)

对拍摄到的图像进行反射光成分图像与荧光成分图像分离

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利用AI光谱图像处理算法,将拍摄的图像分离为反射光成分和荧光成分图像。结果,反射光成分图像显示为橙色,荧光成分图像显示为绿色。二者分别与反射光谱与荧光光谱的单色光一致。由此可知,此样品是橙色反射光和绿色荧光的混合,所以在白光下呈黄色。此外,通过反射图像和荧光图像可看出样品不同区域的光学特性(图像图案)差异。放大图像后可以看到,反射板的微细结构存在规律的间隔,其间隔宽度是200 μm。

主要功能

项目内容
EEM View模式
(测定模式)
三维荧光光谱的测定
单色光图像
白色光图像
预览图像
数据处理显示缩略图
显示三维荧光光谱(等高线,渐变图)
显示激发/发射光谱
显示放大图像
图像分区(1×1、2×2、3×3、4×4、5×5)
计算、显示不同区域光谱(荧光、反射)*1
显示分离图像(荧光、反射)*1

*1计算系统是国立信息学研究所的IMARI SATO教授和郑银强副教授共同研究的成果

规格

项目内容
照射波长

360 nm ~700 nm

相机彩色(RGB)CMOS传感器
接口

USB3.0

有效像素数1920 × 1200(H×V)
可拍摄波长范围

380 nm ~700 nm

*此配件的主要规格以荧光分光光度计主机为设计依据。

配置示例

名称P/N(序列号)
F-7100荧光分光光度计

5J1-0042

EEM View配件

5J0-0570

R928F光电倍增管

650-1246

副标准光源

5J0-0136


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