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日立离子研磨仪器-IM4000PLUS

名称 离子研磨仪
规格
品牌 HITACHI日立
型号 IM4000
产品详情
产品选件
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IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨(Flat Milling®*1)的混合式离子研磨仪器。借此,可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等,为评价目的样品的制作。

*1平面研磨(Flat Milling®)是位于日本国内的日立高新技术有限公司的注册商标。



参数规格:


项目内容
IM4000PLUSIM4000PLUS
断面研磨杆平面研磨杆
使用气体Ar(氩)气
加速电压0 ~ 6 kV
**研磨速度(Si材料)500 µm/hr*1 以上-
**样品尺寸20(W)× 12(D)× 7(H)mmΦ50 × 25(H) mm
离子束
间歇照射功能
标配
尺寸616(W)× 705(D)× 312(H)mm
重量机体48 kg+回转泵28 kg
附冷却温度调节功能的IM4000PLUS
冷却温度调节功能通过液氮间接冷却样品、温度设定范围:0°C ~ -100°C
选项
空气隔离
样品夹持器
仅支持断面研磨夹持器-
FP版断面研磨夹持器100 µm/rotate*2-
用于加工监控的显微镜倍率 15 × ~ 100 × 双目型、三目型(支持CCD)




产品特点:


高通量的断面研磨

配备断面研磨能力达到500 µm/h*2以上的高效率离子枪。因此,即使是硬质材料,也可以高效地制备出断面样品。

*2在加速电压6 kV下,将Si从遮挡板边缘伸出100 µm并加工1小时时的**深度

断面研磨

  • 即使是由硬度以及研磨速度不同的成分所构成的复合材料,也可以制备出平滑的断面样品

  • 优化加工条件,减轻损伤

  • 可装载**20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的样品

断面研磨的主要用途

  • 制备金属以及复合材料、高分子材料等各种样品的断面

  • 制备用于分析开裂和空洞等缺陷的断面

  • 制备评价、观察和分析所用的沉积层界面以及结晶状态的断面

断面研磨加工原理图

断面研磨加工原理图


平面研磨(Flat Milling®

  • 均匀加工成直径约为5mm的范围

  • 可运用于符合其目的的广泛领域

  • **可装载直径50 mm × 厚度25 mm的样品

  • 可选择旋转和摆动(±60度~±90度的翻转)2种加工方法

平面研磨(Flat Milling®)的主要用途

  • 去除机械研磨中难以消除的细小划痕和形变

  • 去除样品的表层

  • 消除FIB加工的损伤

平面研磨(Flat Milling®)加工原理图
平面研磨(Flat Milling®)加工原理图



与日立SEM的样品结合

  • 样品无需从样品台取下,就可直接在SEM上进行观察。

  • 在抽出式的日立SEM上,可按照不同的样品分别设置截面、平面研磨杆,因此,在SEM上观察之后,可根据需要进行再加工。




冷却温度调节功能*1

附冷却温度调节功能的IM4000PLUS
附冷却温度调节功能的IM4000PLUS


该功能可有效防止加工过程中,由于离子束照射引发的样品的温度上升,所导致样品的溶解和变形。对于过度冷却后会产生开裂的样品,通过冷却温度调节功能可防止其因过度冷却而产生开裂。

*1此调节功能不是IM4000PLUS的标配功能,而是配有冷却温度调节功能的IM4000PLUS功能。

样品:铅焊料


常温研磨 冷却研磨
冷却研磨 常温研磨





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